Contact
Retour

ALD – Atomic Layer Deposition – Ultratech SAVANNAH G2

Atomic Layer Deposition – Ultratech SAVANNAH G2

Le système Ultratech SAVANNAH G2 offre une solution accessible pour le dépôt en couches atomiques (ALD) d’oxydes métalliques.

Caractéristiques techniques

  • Échantillons jusqu’à 8 pouces de diamètre
  • Précurseurs disponibles : eau DI et TMA (autres installables sur demande)
  • Procédés basse température : jusqu’à 180 °C

The Ultratech SAVANNAH G2 system provides an accessible solution for atomic layer deposition (ALD) of metal oxides.

Key Features

  • Samples up to 8‑inch diameter
  • Available precursors: DI water and TMA (others can be installed on request)
  • Low‑temperature processing: up to 180 °C