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Mask Aligner & Nanoimprint System

L’EVG6200® est un aligneur de masque (ou mask aligner) polyvalent, servant d’outil classique de photolithographie avec des capacités étendues incluant la nano-impression UV (UV-NIL) et l’impression par microcontact. Son module de nano-impression permet de définir des nanostructures avec des tailles de caractéristiques significativement plus petites que celles réalisables par photolithographie conventionnelle.

Caractéristiques techniques

  • Compatibilité substrats : Jusqu’à 200 mm de diamètre, épaisseur entre 0,1 et 100 mm
    (rigides ou flexibles)
  • Résolution en photolithographie : ≥ 1,5 µm
  • Résolution en nano-impression : < 50 nm
  • Précision d’alignement assisté : ±1 µm
  • Source de rayonnement UV : Lampe à vapeur de mercure (Hg) 500W, 350-450 nm

The EVG6200® is a versatile mask aligner, serving as a classic photolithography tool with expanded capabilities including UV nanoimprint lithography (UV-NIL) and microcontact printing. Its nanoimprint module enables the definition of nanostructures with feature sizes significantly smaller than those achievable with conventional photolithography.

Key Features

  • Substrate Compatibility: Up to 200 mm diameter, 0.1 to 100 mm thickness (rigid or flexible)
  • Photolithography Resolution: ≥ 1.5 µm
  • Nanoimprint Resolution: < 50 nm
  • Assisted Alignment Accuracy: ±1 µm
  • UV Radiation Source: 500W Mercury (Hg) lamp, 350-450 nm

Plus de détails sur le mask aligner

Au sein d’ELORPrintTec, la structuration de la matière à l’échelle micro et nanométrique est rendue possible grâce à notre combiné de Mask Aligner et de technologie Nanoimprint (NIL). Ces outils sont le cœur battant de la micro-fabrication pour l’électronique organique et plastique, permettant de définir des circuits avec une résolution que les méthodes d’impression classiques ne peuvent atteindre.

Le Mask Aligner : L’alignement parfait pour la photolithographie

Le Mask Aligner est l’équipement indispensable pour la réalisation de transistors à effet de champ (OFET), de photodétecteurs ou de micro-électrodes. Son rôle est de superposer avec une précision de l’ordre du micromètre différents niveaux de motifs (grilles, contacts source-drain, couches de passivation). En exposant une résine photosensible à travers un masque de chrome sous un flux d’UV contrôlé, nous permettons le transfert de designs complexes sur des substrats rigides ou flexibles. Chez ELORPrintTec, nous maîtrisons les techniques de « soft lithography », adaptées aux matériaux fragiles de l’électronique imprimée qui ne supporteraient pas les procédés agressifs de la micro-électronique silicium standard.

La Nanoimpression (NIL) : Repousser les limites du possible

Pour les applications nécessitant une résolution allant bien au-delà du micromètre, notre système de Nanoimprint (NIL) offre une alternative puissante à la lithographie par faisceau d’électrons (e-beam), beaucoup plus lente et coûteuse. Le principe consiste à presser un moule nanostructuré dans un polymère thermo-plastique ou une résine photodurcissable. Cette technique de « gaufrage » permet de dupliquer des motifs sub-micrométriques (jusqu’à quelques dizaines de nanomètres) de manière répétable.

Les applications de la Nanoimprint chez ELORPrintTec sont vastes :

  • Optique diffractive : Création de réseaux de diffraction et de métasurfaces.
  • Plasmonique : Structuration de métaux pour des capteurs ultra-sensibles.
  • Amélioration de l’extraction de lumière : Structuration de couches pour booster l’efficacité des OLED.

FAQ

À quoi sert cet équipement ?

L’EVG est un outil polyvalent utilisé pour transférer des motifs d’un masque vers un substrat photosensible (UV-Lithography) ou pour presser un moule dans une résine (Nanoimprint Lithography – NIL). Il permet d’atteindre des résolutions sub-microniques.

Pourquoi l’utiliser en salle blanche ISO 6 ?

À l’échelle du nanomètre, une poussière est un obstacle colossal. Pour le Nanoimprint, la moindre impureté entre le moule et le substrat brise la fidélité du motif et peut endommager le tampon coûteux.

Quels sont les avantages / limites de cet équipement ?

Avantages : Haute résolution (jusqu’au sub-100 nm en NIL), alignement face avant/face arrière haute précision.

Limites : Processus plus lent que l’impression directe, nécessite un environnement ultra-contrôlé et des consommables (masques) spécifiques.

Sur quels substrats peut-on déposer ?

Wafers de silicium, verre, quartz, et substrats polymères rigides ou flexibles préalablement revêtus d’une résine photosensible ou électro-sensible.

Quelle est la résolution de l’EVG6200 en photolithographie ?

Pour rappel, la photolithographie utilise des rayons ultraviolets (UV) pour transférer un dessin à travers un masque sur une résine photosensible.

Sa résolution est supérieure ou égale à 1,5 µm.

Quelle est la résolution de l’EVG6200 en nano-impression ?

Pour rappel, la nano-impression (NIL – Nanoimprint Lithography) est une technique de lithographie par contact mécanique. On utilise un moule rigide qui vient « presser » le motif dans une résine polymère, un peu comme un sceau dans de la cire.

Sa résolution est inférieure à 50 nm.